脉冲激光沉积(PLD)镀膜系统

 

  脉冲激光沉积(Pulsed laser deposition,PLD)利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其脱离靶材进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术具有几大优点:一,激光能量高,可用于溅射各种难熔材料,而且不同成分全部溅射,可以得到与靶材成分一致的多元化合物薄膜;二,溅射既可在真空下也可在较高环境气压下进行,适合生长复杂的氧化物薄膜和各种不同性质的材料;三,激光源、靶、衬底相互独立,可分别控制。因此,其应用范围最为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。我们使用的PLD系统,选用Coherent公司出产的COMPexPro205型KrF激光器,多靶位设计方便更换靶材,用于原位生长不同材料的多层薄膜。

 

 
  
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