DPS-LIM型高真空对靶磁控与
离子束溅射镀膜装置

 

  本设备可用于开发纳米级的单层及多层功能膜——各种硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜,铁磁膜等材料,为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。本系统主要由溅射室,离束室,磁控溅射对靶(三组六只对靶),平面靶(二个),直流溅射电源,RF溅射电源,样品转台加热炉,离子枪,转靶,泵抽系,磁力传递送样机构,真空测量系统,气路系统,电控系统,水压报警系统和微观控制镀层系统等组成。

 

 
  
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